ILSML?著力于該領域產(chǎn)品開發(fā)的過程中，構建出截止到目前為止相對完備的作用機理理論體系，結合理論分析解決諸如用于UV體系對光引發(fā)劑不敏感控制、用于非/弱極性體系提升相容性、實現(xiàn)8次方產(chǎn)品結構或構成設計、理解與解釋出現(xiàn)的問題與現(xiàn)象如有些時候隨著抗靜電劑添加量增加撕膜電壓不降反而會有所增大，等等，業(yè)內為數(shù)不多可通過已確立的6個抗靜電作用機理模型結合高分子與材料熱力學理論對不同應用場景的需求有選擇性的設計產(chǎn)品和相應解決方案。

例如：結合現(xiàn)有理論基礎，若存在正離子大概率偏移方向與電子漂移方向一致的抗靜電劑，測算并設計出抗靜電劑最優(yōu)添加量，是最佳解決方案之一，但眼下直接用于實踐難度較大；類似從抗靜電劑自身角度出發(fā)解決撕膜電壓問題的還有另一個可行的解決方案，在此不作展述。

在與用戶未達到深入交流了解足夠信息之前，ILSML?通過讓用戶測定幾組錨定的樣品后繪制正交表，從中找出規(guī)律，再按照目標設計樣品交由用戶進一步測試，通過此法解決問題的用戶中，撕膜電壓最小可達到80V。

ILSML ?團隊專注高端光學透明抗靜電劑研發(fā)、生產(chǎn)，以不改變透明性和較低添加量為開發(fā)目標，使膠層及其組件改性達到長效至半永久透明防靜電， 鑒于該領域無寬適用面產(chǎn)品的現(xiàn)狀，為滿足用戶不同場景對不同抗靜電性能的需求，通過機理研究結合實驗驗證的開發(fā)模式，持續(xù)不斷推出新品和解 決方案，如 5~8 次方、UV 適用、熱固適用、弱極性相容、無鹵/氟、低撕膜電壓等，在保護膜、離型膜、偏光片等光學膜領域得到充分驗證與使用， 并持續(xù)逐步豐富和更新專用產(chǎn)品品類來提升產(chǎn)品適配寬度與成功率。